来源:中国新能源网2011-02-09
会期:2011年3月2日(三)-4日(五) 会场:日本东京有明国际展览中心主办单位:reed exhibitions japan ltdfcexpo共同举办:氢能源协会(hess)燃料电池开发情报中心(...「太阳能电池用 ag/ai best ‘maxsunny’」餐具制造中的研削、研磨、混炼、印刷、烧成技术为核心的太阳能电池单元材料、制造工具及制造装置的介绍!二次电池展1.
2004-08-18
正如英特尔公司表示的,euv光刻技术将使它能“印刷”尺寸小于30纳米的电路。相比之下,今天在英特尔制造工厂能“印刷”的最小尺寸为50纳米。 国际上的芯片巨头和研究机构早就盯上了这项技术。