来源：CFDA大健康社区2017-01-09

图1dbd等离子体双介质阻挡放电示意图等离子体去除污染物的基本过程过程一：高能电子的直接轰击过程二：o原子或臭氧的氧化o2+e2o过程三：oh自由基的氧化h2o+eoh+hh2o+o2ohh+o2...低温等离子废气处理设备已经还广泛的应用于环境保护、包装、纺织、塑料制品、汽车制造、电子设备制造、家电制造、计算机制造、手机制造、生物材料、卫生材料、医疗器皿、杀菌消毒、环保设备、石油天然气管道、供暖管道、化工子、半导体

2007-01-17

他们将含有金属微粒的蛋白质溶液涂布到玻璃和硅衬底上之后，金属微粒就会通过自组装按照基本固定的间隔进行排列。...除英特尔外，美国德州仪器、韩国三星、日本东芝等世界上重要的半导体厂商的65纳米生产线也纷纷投产。 　　在65纳米工艺上，ibm等公司开发出了快速cmos技术。