来源：北极星太阳能光伏网2012-05-24

图6.1pecvd的结构示意图6.2pecvd的工作原理和特点目前太阳能光伏市场上用的pecvd设备，国外的主要有德国centrotherm和日本岛津的镀膜设备;国内的主要有生产型管式pecvd，接下来就该管式

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-05-18

三、oltsolar晶体硅太阳能电池的pecvd新系统oltsolar展出了一款用于生产晶体硅太阳能电池的pecvd新系统。

来源：ne21.com2012-05-15

太阳能电池就是以tco薄膜为衬底生长的，用等离子体增强化学气相沉积法（pecvd）生长的太阳能电池层也称为有效层。有效层包括两个pin串联的双结结构。...其中pin膜的沉积是利用pecvd技术在非硅衬底上制备晶粒较小的多晶硅薄膜的一种方法。该薄膜是一种p-i-n结构，主要特点是在p层和n层之间有一层较厚的多晶硅的本征层（i层）。

来源：OFweek太阳能光伏网2012-05-11

美国商务部(doc)宣布，针对我国光伏电池进口的反补贴关税(cvd)调查和反倾销关税(ad)调查两项最终判决将同时做出。两项判决最迟不会晚于2012年7月30日做出。...ad的初步裁决将于5月16日做出，而cvd的初步判决已于3月给出。商务部宣称，我国光伏组件生产商不恰当地接受了政府的补贴。据中国业者委外成本推算台湾业者的接单量在五月之后会继续提升。

来源：中国能源报2012-05-04

在生产装备方面，晶体硅电池用的高档设备仍需进口，如高纯多晶硅生产的氢化炉、四氯化硅闭环回收装置、大尺寸(如450kg以上)铸锭炉、多线切割机、pecvd镀膜设备、自动丝网印刷机、全自动电池焊接机等。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-05-04

表面有有机油污污染或清洗液残留等造成的硅片表面沾污，在制绒过程中，会出现异常图7硅片表面因为有油污等存在，制绒后未能长出金字塔结构的绒面图8由于原始硅片手指印和有误的存在，在制绒过程中无法去除，在pecvd

来源：中国能源报2012-05-03

在生产装备方面，晶体硅电池用的高档设备仍需进口，如高纯多晶硅生产的氢化炉、四氯化硅闭环回收装置、大尺寸(如450kg以上)铸锭炉、多线切割机、pecvd镀膜设备、自动丝网印刷机、全自动电池焊接机等。

来源：环球光伏网2012-05-02

ad的初步裁决将于5月16日做出，而cvd的初步判决已于3月给出。商务部宣称，我国光伏组件生产商不恰当地接受了政府的补贴。...近日，美国商务部(doc)宣布，针对我国光伏电池进口的反补贴关税(cvd)调查和反倾销关税(ad)调查两项最终判决将同时做出。两项判决最迟不会晚于2012年7月30日做出。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-04-27

目前，普遍采用的等离子体增强化学气相沉积法（pecvd）沉积本征及掺杂的a-si:h膜，同时热丝化学气相沉积法（hwcvd）制备a-si:h法也被认为很有前景。...hwcvd的缺点在于非晶硅的外延可以穿透5纳米后的本征薄膜而与晶体硅直接接触，这样会导致高缺陷，这样界面面积和缺陷态密度的增大会导致高的暗电流，继而开路电压也会减低。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-04-25

4结论利用centrotherm管式pecvd在多晶硅上生长出双层氮化硅，底层高折射...1引言等离子增强气相沉积(pecvd)制备氢化非晶氮化硅(sinx：h)已经成为工业太阳电池的标准工艺中一道工序。

来源：电子工程世界2012-04-23

用化学气相沉积法(cvd)在这种衬底上沉积一层外延有源硅薄层。产业竞争力外延薄膜硅太阳能电池的生产工艺与传统的体硅太阳能电池非常相似。

来源：北极星太阳能光伏网2012-04-23

烧结就是把印刷到硅片上的电极在高温下烧结成电池片,最终使电极和硅片本身形成欧姆接触,从而提高电池片的开路电压和填充因子2个关键因素参数,使电极的接触具有电阻特性,达到生产高转效率电池片的目的.烧结过程中有利于pecvd

来源：北极星太阳能光伏网2012-04-19

对一般尺寸的cvd反应容器（直径430mm内）来说，在流速不高（约10cm/s）时，气体将处于黏滞流的层流状态。...这点与用lpcvd所形成的氮化硅膜是有差异的。随着工艺气体总流量的增加，吸光系数也缓慢增加，hf酸腐蚀的速度也缓慢提高，可见致密性在变差。

来源：solarF2012-04-13

cvd还原反应(将高纯度tcs还原为高纯度多晶硅)是改良西门子法多晶硅生产工艺中能耗最高和最关键的一个环节，cvd工艺的改良是多晶硅生产成本下降的一项重要驱动力。...通过cvd技术的改良、中间气体生产技术的进步和规模化效益的凸显，二次创新的改良西门子法已经成为目前技术最成熟、配套最完善、综合成本最低的多晶硅生产工艺。

来源：PV-Tech2012-04-10

参加这一项目的机构包括：洛桑联邦理工学院(epfl)捷克科学院物理研究所(fyziklnstavavr,v.v.i)斯洛文尼亚卢布尔雅那大学(univerzavljubljani)英国公司cvdtechnologies

来源：PV-Tech2012-04-10

参加这一项目的机构包括：洛桑联邦理工学院(epfl)捷克科学院物理研究所(fyziklnstavavr,v.v.i)斯洛文尼亚卢布尔雅那大学(univerzavljubljani)英国公司cvdtechnologies

来源：光伏制造2012-04-09

二pecvd技术的分类用来制备sinx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法（cvd法）、等离子增强化学气相沉积（pecvd法）、低压化学气相沉积法（lpcvd法）。在目前产业上常用的是pecvd法。

来源：北极星太阳能光伏网2012-03-31

主要硅提纯工艺分别介绍1 改良西门子法闭环式三氯氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢)，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行cvd

来源：北极星太阳能光伏网2012-03-27

国内外多晶硅生产的主要工艺技术1、改良西门子法闭环式三氯氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行cvd

来源：仪表网2012-03-27

在电池片制备中，国产的pecvd还没有成为新建和扩产项目的首选，这说明它与国外先进的pecvd设备还有一些差距，最为薄弱的是国内在组件制备中的自动化生产线尚属空白，希望有实力的设备生产企业尽快涉足，以解国内燃眉之急