来源：高工锂电网2015-09-01

硅薄膜形态的变化硅薄膜是以物理溅射的方法在表面粗糙的铜箔上的。其表面形貌分析应用的是hrtem(feitecnai20)。...为了使硅负极可以应用于实际生产，本文以无定形硅薄膜溅射在铜箔上成功制备出了厚度大于1的硅薄膜负极材料并与市场上的licoo2制成电池进行了一系列循环和倍率性能测试。

来源：环球光伏网2011-08-04

东曹电子材料公司(tosohsmd)近日宣布将在上海成立薄膜溅射靶材制造分公司，尽管东曹株式会社下属的电子材料公司已经在华经营超过20年，这还是该公司首次在大陆设厂生产。...“东曹电子材料已经在中国市场已经耕耘了20多年，我们预计本地区对我们溅射靶材的需求还会进一步上升，”东曹电子材料的总经理兼首席运营官马蒂布拉兹克(martyblazic)表示，“通过成立东曹上海分公司，