来源：可迪尔2020-12-21

在半导体行业中造成环境污染的有机废气，主要来源于芯片或者是线路板生产的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影等过程。

来源：X一MOL资讯2020-08-12

具体来说，以一块钙钛矿晶体（例如mapbi3）作为衬底，其上覆盖一层通过刻印法刻蚀而图案化的聚合物膜（如parylene）作为控制晶体生长的掩模（mask），再利用外延法在溶液中生长新的钙钛矿单晶。

来源：新能源Leader2020-07-24

下图a-d为经过激光刻蚀后的负极，可以看到负极表面布满了均匀分布的微孔，负极表面没有因为激光刻蚀产生明显的多余物。...相比之下，激光刻蚀微孔电极内部

来源：摩尔光伏2020-07-21

温度可以作为刻蚀速率的调节手段，但是这是最后的手段。由于温度较高的情况下，刻蚀溶液在刻蚀槽时会不稳定，所以一般不宜长时间超过10度，当前我们的补液能保证刻蚀速率不下降，所以我们无需调高刻蚀溶液的温度。

来源：电子发烧友2020-07-13

要制造出大的球形太阳能电池，研究人员需要在15%的平板太阳能电池上刻蚀出交替的凹槽，以形成一个中间连接的椭圆形带状图案。

来源：SOLARZOOM光储亿家2020-06-23

在刻蚀设备领域，应用材料也有着不小的市场份额。在研发投入上，应用材料的大手笔令很多企业望尘莫及，持有13300项专利。...可以说，应用材料的薄膜沉积（cvd、pvd 等）、氧化、刻蚀、离子注入、快速热处理、化学机械平整（cmp）、计量检验等设备基本覆盖了集成电路生产的全部环节。

来源：中国光伏行业协会CPIA2020-06-22

电池片设备主要包括制绒、扩散炉、在线湿法刻蚀机、背钝化、pecvd、激光开槽、丝网印刷机以及测试分选设备。

来源：中国政府采购网2020-06-18

稳态瞬态荧光光谱仪 1台,规格型号：fs5等，数量：1台,单价：元,服务要求：详见文件量子效率测试仪 1台,规格型号：qe-r3011等，数量：1台,单价：元,服务要求：详见文件爱你03包：原子层层积系统 1套，激光刻蚀机

来源：新能源沙龙 中信建投2020-06-17

工艺设备材料拆解——常规单晶铝背场电池常规p型单晶铝背场电池使用p型硅片做衬底，在槽式制绒清洗机中完成清洗制绒，在扩散炉中进行扩散制pn结，使用湿法刻蚀清洗机或等离子体刻蚀机与去psg清洗机完成刻蚀和去磷硅玻璃

来源：北极星储能网2020-06-03

重点为高端芯片产品（处理器芯片、存储器芯片、通信芯片、高端传感器芯片、模拟或数模混合芯片等）；高端集成电路装备产品（光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、湿法设备、扩散设备、抛光设备、离子注入设备、检测设备等）

来源：天风机械团队2020-06-02

公司主营pecvd设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售。...其中，半导体掺杂沉积光伏设备包括扩散设备和pecvd设备等，湿法工艺光伏设备包括清洗设备、制绒设备和刻蚀设备等。主营构成来看，半导体掺杂沉积光伏设备是

来源：光伏技术2020-05-26

1.3 采用无机碱（koh/naoh）在刻蚀工艺中对扩散后硅片背面及边缘进行刻蚀抛光，替代传统酸抛光刻蚀工艺，能够取得更好的抛光性能，并降低工艺成本。2....碱刻蚀抛光工艺流程2.1 常规酸背面抛光流程1. 硅片漂浮在hf/hno3/h2so4组成的刻蚀液上，去除背面及边缘的psg，同时对背面进行抛光；2.

来源：中国科学报2020-05-25

此外，面向国家微纳制造产业的重大需求，金属电沉积、电聚合、腐蚀和刻蚀等界面电化学过程，将在微纳机电系统、微纳结构功能器件、半导体晶圆抛光、高端电子制造（芯片大马士革铜互连、超大规模集成电路封装和集成中的电子电镀

来源：摩尔光伏2020-05-25

相对低成本的方法有通过丝网印刷刻蚀浆料或者阻挡型浆料来刻蚀或者挡住不需要刻蚀的部分掩膜，从而形成需要的图形。这种方法需要两步单独的扩散过程来分别形成p型区和n型区。

来源：金华日报2020-05-18

扩散制绒、激光刻蚀、丝网印刷……每天，经过多道复杂工艺制作而成的perc高效太阳能电池，从位于义乌光源科技小镇的生产车间发往世界各地。

来源：摩尔光伏2020-05-18

4.如果经过检验，任何一个边沿没有刻蚀合格，则这一批硅片需要重新进行刻蚀。过刻以及刻蚀线不齐解决方法：抽风抽风在很大程度上会影响到刻蚀槽液面波动，而刻蚀

来源：光赋窗益2020-05-12

03激光刻蚀/切割技术激光刻蚀/切割技术，通过激光刻蚀技术改变薄膜电池透过率，提高薄膜电池透过率，或者通过激光切割技术将电池片切割成细条，提高光伏窗采光均匀性。...03 激光刻蚀/切割技术其发电效率与选用材料相关，光伏窗的发电量和光伏覆盖率相关，覆盖率越高发电量越多。

来源：光伏测试网2020-05-09

为使背面金属电极与硅形成良好的欧姆接触，需要对钝化层进行刻蚀，目前主流工艺采用激光开槽的方式来完成这一工序。

来源：北极星太阳能光伏网2020-04-29

据悉，捷佳伟创是从事晶体硅太阳能电池设备研发、生产和销售的国家高新技术企业，在单晶perc电池片的湿法制绒、刻蚀以及镀膜等工艺设备领域处于行业领先地位。

来源：信达证券2020-04-28

捷佳伟创是从事晶体硅太阳能电池设备研发、生产和销售的国家高新技术企业，在单晶perc电池片的湿法制绒、刻蚀以及镀膜等工艺设备领域处于行业领先地位。近年来捷佳伟创业绩增长迅速，进入订单、业绩双高增阶段。