来源：pv-tech2014-07-31

材料专家akzonobel正在与新加坡太阳能研究所(seris)在新加坡国立大学合作，旨在为氧化铝钝化层工艺提供更低成本的原子层沉积(ald)与等离子体增强化学气相沉积(pecvd)前体。

来源：PV-Tech2014-05-20

最后，通过等离子体增强化学沉积技术在涂层表面共价接枝一单分子短链硅烷层，从而赋予背板中等表面能，使之与eva具有长期的绝佳粘合性。...扫描电镜(sem)显示，等离子体表面刻蚀和活化显著增加了pet与涂层之间的相容性，使它们之间得到十分紧密而强有力的整合。

来源：OFweek太阳能光伏网2014-03-25

辉光放电法是将一石英容器抽成真空，充入氢气或氩气稀释的硅烷，用射频电源加热，使硅烷电离，形成等离子体。非晶硅膜就沉积在被加热的衬底上。若硅烷中掺人适量的氢化磷或氢化硼，即可得到n型或p型的非晶硅膜。

来源：新华社2014-03-14

据了解，光伏产业链运用到的主要装备有三氯氢硅系统、多晶硅炉、单晶硅炉、多线切割机、等离子体气相沉积设备、等离子刻蚀机、制绒机、激光划切机、丝网印刷机，自动分拣机等。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2013-12-27

pecvd法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。间接法：或称离域法。...待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。北极星太阳能光伏网编辑按照已知销售商数量(非静态指标)列出了国内前十名光伏pecvd设备企业，仅供参考。

来源：ICCSZ2013-10-18

(管内cvd(化学汽相沉积)法、棒内cvd(化学汽相沉积)法、pcvd(等离子体化学汽相沉积)法以及vad(轴向汽相沉积)法都是正确的光纤制作方式。

来源：中自网2013-08-30

然后研究人员用pmma热塑性塑料填充纳米线之间的空隙，再用氧等离子体蚀刻掉多余的pmma热塑塑料，暴露出纳米管的顶端。...最后的步骤包括形成欧姆接触，底部的氮化镓薄膜使用镍金电极，阵列顶部沉积透明的铟锡氧化物薄膜作为公共电极。更灵敏的机器人?更好的假肢?

来源：中国科学报2013-08-13

虽然核安全所所龄很短但团队前期实力沉积雄厚，它在原有多学科交叉先进核能技术研究团队fds团队研究基础上成立，fds团队十余年的厚实积淀在两个共建单位的推动下注入核安全所，促其顺利启航。...强强结合 应势而生2011年9月28日，由中科院合肥物质科学研究院(以下简称合肥院)和中国科学技术大学联合共建的中科院核能安全技术研究所正式揭牌成立，时任合肥院等离子体物理研究所副所长兼中科大核科学技术学院副院长的吴宜灿

来源：研华（中国）公司2013-05-28

项目背景pecvd即借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。...为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种cvd称为等离子体增强化学气相沉积(pecvd)。

来源：《光伏产业观察》杂志2013-04-19

同时，该中心推出了一系列拥有自主知识产权和创新的原子层沉积设备产品，包括热型设备、等离子体增强型设备和适于光伏产业应用的批量型设备，实现了国产原子层沉积设备在光伏产业首创应用的新局面，为下一代高效晶硅太阳能电池产业的发展提供了国产化设备支撑

来源：生意社2012-12-27

2)气液沉积法生产粒状太阳能级多晶硅据资料报导以日本tokuyama公司为代表，目前10吨试验线在运行，200吨半贸易化规模生产线在2005-2006年间投进试运行。...主要工艺是：选择纯度较好的产业硅(即冶金硅)进行水平区熔单向凝固成硅锭，往除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分后，进行粗粉碎与清洗，在等离子体融解炉中往除硼杂质，再进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭，往除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分

来源：科技部2012-09-19

，包括边界等离子体输运及偏滤器行为、边界等离子体原子分子过程、壁材料等离子体辐照效应和高热负荷效应、氢同位素滞留与输运、壁表面刻蚀和再沉积原位诊断技术、托卡马克实验等。

来源：ne21.com2012-07-05

，包括热型设备、等离子体增强型设备和适于光伏产业应用的批量型设备，实现了国产原子层沉积设备在光伏产业首创应用的新局面，为下一代高效晶硅太阳能电池产业的发展提供了国产化设备支撑。...目前，微电子仪器与设备创新团队以技术优势，吸引美国硅谷研究团队来嘉兴开展原子层技术合作，强强联合，加快了国内开发原子层沉积设备的研制和在嘉兴市的产业化，推出了一系列的拥有自主知识产权和创新的原子层沉积设备产品

来源：solarzoom2012-06-11

因为大功率可以增大硅烷的分解率，这样氢等离子体的数量相对增多，硅表面以及非晶硅体内的悬挂键得到很好的饱和，少子寿命提高。...3.2本征层沉积气压对少子寿命的影响从图2可以看出，少子寿命随沉积气压的增加呈现先增大后减小的趋势，这说明要想得到好的钝化效果，沉积气压必须适中。

来源：北极星太阳能光伏网2012-05-30

等离子体加工过程中另一方面的问题是等离子体损伤,主要指离子轰击及光子辐照,除了会降低沉积膜的质量外,还对晶体si衬底带来损伤。...这种差异的原因往往是隐性的,解决这一问题需要精通等离子体的专业知识。2.等离子体中电子及离子辐照对沉积薄膜结构及电子学特性损伤。

来源：北极星太阳能光伏网2012-05-24

由于等离子体存在，促进气体分子的分解、化合、激发和电离，促进反应活性基团的生成，从而降低沉积温度。pecvd在200℃～500℃范围内成膜，远小于其他cvd在700℃～950℃范围内成膜。

来源：北极星太阳能光伏网2012-05-23

而且被击出的物质并非挥发性物质，这些物质容易沉积在被刻蚀薄膜表面及侧壁上，因此采用完全物理方式的刻蚀方法在半导体器件制程制造过程中很少被使用。...直到六十年代人们才发现等离子体可用于去除残留碳化物，并可成功地用于等离子体去胶工艺中，随后很快发展了半导体器件工艺中的干法刻蚀技术。

来源：ne21.com2012-05-15

太阳能电池就是以tco薄膜为衬底生长的，用等离子体增强化学气相沉积法（pecvd）生长的太阳能电池层也称为有效层。有效层包括两个pin串联的双结结构。...薄膜沉积后，采用激光设备对沉积膜进行高速、精确地划刻。随着技术的发展，激光作为一个功能强大的生产性工具，已广泛应用于制造、表面处理和材料加工领域。

来源：中国钢材网2012-05-10

采用真空蒸镀的方法在玻璃衬底上沉积1层非晶硅薄膜，再通过铝诱导晶化的方法可以制备出晶粒分布较均匀、晶粒尺寸0.5-5m、晶化率达到89%的多晶硅薄膜。...目前，多晶硅薄膜常用的制备方法有等离子体增强化学气相沉积，热丝化学气相沉积，准分子激光晶化，固相晶化，快速热处理等。现有研究采用真空蒸镀法制备非晶薄膜后经铝诱导晶化得到多晶硅薄膜。

来源：北极星太阳能光伏网（独家）2012-04-27

目前，普遍采用的等离子体增强化学气相沉积法（pecvd）沉积本征及掺杂的a-si:h膜，同时热丝化学气相沉积法（hwcvd）制备a-si:h法也被认为很有前景。...pecvd的缺点表现在两个方面，一是它的不稳定性，二是电子和离子的辐射会对所沉积的薄膜构成化学结构上的损伤。等离子体作为准中性气体，它的状态容易被外部条件的改变而发生变化。