来源：佳工机电网2010-11-19

1、阻旋式料位开关 阻旋式料位开关可以用于固体颗粒和粉尘的测量，主要应用于饲料、二氧化硅、石块、球状颗粒、木屑、钙粉、橡胶、金属、石灰石、谷粒、铸造用砂、锯屑、煤粉、树脂、生牛皮、花生、黏土等物料的测量

来源：北极星电力网新闻中心2010-10-15

、氧化硅、多晶硅等）、氧化扩散退火（含快速退火工艺）合金、真空烧结等工艺。...的青岛华旗科技有限公司就是一家专业的半导体工艺设备及先进材料专用设备研发、制造厂家，致力于为半导体集成电路分立器件、太阳能电池、半导体照明led及磁性材料厂家提供先进的专用设备,工艺涵盖化合物半导体晶体生长、外延、薄膜淀积（氮化硅

来源：中国低压电器网2010-10-14

非磁性物体可以是二氧化硅等绝缘体，硅树脂、聚乙烯、环氧树脂等高分子材料作粘接剂和硬脂酸等作润滑剂。

来源：机电商情网2010-10-11

非磁性物体可以是二氧化硅等绝缘体，硅树脂、聚乙烯、环氧树脂等高分子材料作粘接剂和硬脂酸等作润滑剂。

来源：阿里巴巴2010-10-08

非磁性物体可以是二氧化硅等绝缘体，硅树脂、聚乙烯、环氧树脂等高分子材料作粘接剂和硬脂酸等作润滑剂。

来源：中国化工报2010-09-02

韩国oci公司近日表示，计划2010～2020年在位于韩国群山市的新万锦工业联合体内投资10万亿韩元（约合84亿美元）新建一座用于生产多晶硅、纳米二氧化硅和碳材料的高级材料工厂。

来源：中国化工报2010-09-01

韩国oci公司近日表示，计划2010～2020年在位于韩国群山市的新万锦工业联合体内投资10万亿韩元（约合84亿美元）新建一座用于生产多晶硅、纳米二氧化硅和碳材料的高级材料工厂。

来源：新华网海南频道2010-07-07

该工艺直接利用硅石（二氧化硅）为原料制备多晶硅，完全实现了闭环式生产，低耗能、高效率，并且没有废水、废气、废渣的排放，真正体现了节能、环保。

来源：生意社2009-09-28

非磁性物体可以是二氧化硅等绝缘体，硅树脂、聚乙烯、环氧树脂等高分子材料作粘接剂和硬脂酸等作润滑剂。

来源：网易探索2008-11-07

此7层涂层都是由倾斜的二氧化硅和二氧化钛纳米棒组成，每一层高50-100纳米，其模样和功能类似于茂密的森林，在森林中，一层层的树林将阳光捕获。

来源：中国煤炭工业网2008-09-19

、具有自主知识产权的“贫煤、贫瘦煤高炉喷吹技术开发与应用”获得国家科技进步二等奖；潞安矿业集团研发成果“高炉喷吹用烟煤技术条件”成为国家技术标准，获得全国煤炭工业科学技术特等奖；平朔公司的“粉煤灰提取氧化铝和氧化硅

来源：中国电力新闻网2008-09-09

徐颖真表示，“石嘴山还有含二氧化硅98%以上的硅石储量5亿吨。” 　　“除此之外，我认为还有两个因素也对这个投资意向的确定起到了影响。”

2006-02-08

传感器以及相应的变送单元 · 16套ph传感器以及相应的变送单元 · 26套阳离子电导率传感器以及相应的变送单元 · 4套溶解氧分析仪 · 18套钠离子分析仪 · 4套二氧化硅分析仪

2005-03-30

专家认为，该产品采用高能氧离子注入技术制作二氧化硅隔离层，将检测电路与基底隔开，避免了高温环境下检测电路与基底之间的漏电问题，解决了常规硅压力传感器120℃失效的技术难题；该产品将被测高温流体与硅敏感元件相隔离

2004-10-26

新的门厚度将比二氧化硅制作的门厚一倍，虽然这一材料还没有披露，但是它的漏电将会减少，性能将比二氧化硅更高。 　　这种技术将使设计人员能够开发出22纳米芯片，这可能从2011年或2012年开始生产。

2004-10-19

年开始到1995年，经过五年苦心孤诣的研究，欧胜终于生产出了第一款突破性产品：模拟前端产品，该产品改变了欧胜的窘迫，也确立了今天的商业模式，即所谓“卖硅的”(也有人戏称其为“卖沙子的”，沙子的主要成份为二氧化硅...无处不在的“肺” 　如果把核心计算芯片比喻为数码产品的心脏，那么，处理混合信号的芯片堪称数码产品的肺(肺是人体中的氧气和二氧化碳交换工厂，是人体内循环与空气之间的界面)，这类芯片主要的功能是把模拟信号转换为数字信号

2004-02-11

英特尔公司称，为了解决这一问题，它已经找到了一种绝缘金属材料，以取代目前晶体管中普遍使用的二氧化硅。二氧化硅在晶体管中的使用已经有三十年的历史了。...当在芯片上集成的晶体管越来越多时，二氧化硅绝缘层会变得非常薄，使电流能够泄露出去。英特尔公司的解决方案是一种被称为“高k绝缘体”的较厚的金属材料，使晶体管不会发生电流泄露。 　　

2003-12-12

（2）将（1）中生成的高分子图案用于形成二氧化硅图案的掩膜图案（见图1-b）。所形成的二氧化硅图案尺寸精度低于高分子图案精度（见图1-d。...高分子图案在二氧化硅图案形成后将被删除。 （3）通过对硅材料进行成膜和蚀刻处理，形成硅微结晶图案（见图1-c）。 　　ibm预测，今后3～5年内将可以在试制水平上使用该技术。

2003-11-12

英特尔公司称，为了解决这一问题，它已经找到了一种绝缘金属材料，以取代目前晶体管中普遍使用的二氧化硅。二氧化硅在晶体管中的使用已经有三十年的历史了。...当在芯片上集成的晶体管越来越多时，二氧化硅绝缘层会变得非常薄，使电流能够泄露出去。英特尔公司的解决方案是一种被称为“高k绝缘体”的较厚的金属材料，使晶体管不会发生电流泄露。 　　

2003-03-22

但每家又都有自己的专长，如东京电子在二氧化硅刻蚀方面做得最好，而应用材料就做金属刻蚀，市场细分的非常厉害。...例如，东京电子二氧化硅刻蚀机的市场份额占到80%，它为什么还要合资呢？当然二流三流企业会来合作，但带不来尖端技术。