来源：第一电动网2015-12-28

本文想就这些问题，介绍一下这方面技术的进展：一、成本问题用sio2模板，然后采用cvd工艺用ch4做碳氮源，长出石墨烯材料，再用氢氟酸腐蚀掉模板，得到三维石墨烯块材料的工艺，确实其成本太高工业化生产难以接受

来源：雷锋网2015-12-24

不仅如此，很多经过物理/化学气相沉积(pvd/cvd)制备的全固态电池，其整体厚度可能只有几十个微米，因此就可以制成非常小的电源器件，整合到mems(微机电系统)领域中。

来源：晓峰视点2015-12-24

(1)成本文章中使用的制备工艺1是典型的模板法：用sio2模板，然后cvd用ch4和nh3做碳氮源，长出材料，再用氢氟酸腐蚀掉模板，得到材料，不仅如此，之后还要用浓硝酸处理，提高氮含量。...然后cvd制备材料，如果你的材料是论重量而不是论面积来生产，那成本一定妥妥的是醉了的节奏;之后还要用剧毒的氢氟酸来腐蚀，危险的东西防护成本有多高大家想想，最后还有个浓硝酸处理，嗯环评过起来一定很困难。

来源：爱卡汽车2015-12-23

这一合作的成果就是以天然气为原料，利用化学气相沉积法(cvd)制造石墨烯，这是一种真正环保的低成本、单层石墨烯大规模量产工艺及技术。...溶剂剥离法和化学气相沉积法(cvd)比较复杂，其原理太过专业(我才不会承认是我没看明白)，这里就不跟大家细说了。这两种方法的共同的缺点是成本较高。

来源：烯碳资讯2015-12-11

橡树岭国家实验室将这种普通的物质，通过cvd法，巧妙的调整了结构，在原子水平上创建了特别光滑的白石墨烯。...重要的是,白石墨烯的制备是使用标准大气压cvd方法，stehle和她的同事们认为，这将使得白石墨烯的规模化生产可以控制在一个很合理的成本上。

来源：中文业界资讯站2015-11-26

通过使用化学气相沉积(cvd)的方法，铂，镍或钛的碳化物在高温环境中暴露在乙烯或苯当中，来产生单层(一层一个原子厚)石墨烯。

来源：中国科技网2015-11-25

石墨烯的制备通常要经过化学气相沉积(cvd)过程，在特殊表面膜的衬底上生成气体反应物。研究团队利用锂离子电池负极上常用的商业化铜箔生成高质量石墨烯，超光滑的铜箔表面为石墨烯的生成提供了优秀的反应床。

来源：中国科学报2015-11-23

当前，国际上制备石墨烯薄膜多采用昂贵的cvd(化学气相沉积)方法，牛利团队发现，这种方法很难控制薄膜的厚度，特别是难以进行复杂的图案化设计。

来源：经济参考报2015-08-25

据悉，该研究团队还通过制成大规模化学气相沉积(cvd)石墨烯发光器阵列，展示了这项技术的可扩展性。

来源：高工锂电网2015-08-13

化学气相沉积法(cvd)。化学气相沉积法主要用于制备石墨烯薄膜，高温下甲烷等气体在金属衬底(cu箔)表面催化裂解沉积然后形成石墨烯。...cvd法的优点在于可以生长大面积、高质量、均匀性好的石墨烯薄膜，但缺点是成本高工艺复杂存在转移的难题，而且生长出来的一般都是多晶。氧化-还原法。

来源：科学网2015-08-11

中国先闯入领地研究发现，石墨烯专利技术主要集中在以下几个方向：石墨烯的制备，例如氧化还原法、化学气相沉积(cvd)等;石墨烯用于制备半导体器件、光电器件及场发射晶体管等;用于制备石墨烯复合材料及薄膜等;

来源：光伏标准及技术2015-07-30

pecvd技术的分类用来制备sinx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法（cvd法）、等离子增强化学气相沉积（pecvd法）、低压化学气相沉积法（lpcvd法）。在目前产业上常用的是pecvd法。

来源：中国证券网2015-07-21

与传统的cvd制备石墨烯工艺相比，离子注入技术具有低温掺杂、精确的能量和剂量控制和高均匀性等优点，采用离子注入法制备石墨烯单双层数仅受碳注入剂量的影响，与气体的体积比、衬底厚度以及生长温度无关。

来源：微能源微信2015-07-17

与传统的cvd制备石墨烯工艺相比，离子注入技术具有低温掺杂、精确的能量和剂量控制和高均匀性等优点，采用离子注入法制备石墨烯单双层数仅受碳注入剂量的影响，与气体的体积比、衬底厚度以及生长温度无关。...上海微系统所soi材料课题组围绕石墨烯层数控制问题，结合 ni和cu在cvd法中制备石 墨烯的特点，利用两种材料对碳溶解能力的不同，设计了ni/cu体系(即在25 m厚的cu箔上电子束蒸发一层300

来源：生意社2015-06-30

化学气相沉积法(cvd)。化学气相沉积法主要用于制备石墨烯薄膜，高温下甲烷等气体在金属衬底(cu箔)表面催化裂解沉积然后形成石墨烯。...cvd法的优点在于可以生长大面积、高质量、均匀性好的石墨烯薄膜，但缺点是成本高工艺复杂存在转移的难题，而且生长出来的一般都是多晶。氧化-还原法。

来源：高工锂电网2015-06-25

化学气相沉积法(cvd)。化学气相沉积法主要用于制备石墨烯薄膜，高温下甲烷等气体在金属衬底(cu箔)表面催化裂解沉积然后形成石墨烯。...cvd法的优点在于可以生长大面积、高质量、均匀性好的石墨烯薄膜，但缺点是成本高工艺复杂存在转移的难题，而且生长出来的一般都是多晶。氧化-还原法。

来源：中国电子报2015-06-24

二是led(照明)生产线关键设备mocvd、刻蚀机、pvd、cvd等2014年销售51台，实现了产业化。

来源：科技日报2015-06-17

该团队还通过制成大规模化学气相沉积(cvd)石墨烯发光器阵列，展示了这项技术的可扩展性。

来源：新材料在线2015-06-05

其中，最有可能率先突破产业化瓶颈的是化学气相沉积法(cvd法)。广泛的应用二、石墨烯市场概况全球石墨烯市场在2018年将超过1.95亿美元，到2023年将迅速13亿美元。

来源：中国化工报2015-06-04

这种连续卷对卷cvd生长封装转移无损剥离的快速制备石墨烯薄膜的方法突破了诸多技术瓶颈，实现了高品质石墨烯薄膜和高性能柔性透明电极的连续化和规模化生产，具有工业化生产的潜力。