来源：摩尔光伏2018-11-09

选取了其中的“黑丝”电池片（位错富集片，其表现为位错在晶体中成丝状或团状分布，该区域的少子寿命较低，导致其在el图像下呈“黑丝”状分布，同时由于该区域活化能较低易在酸刻蚀过程中留下黑丝状分布的深坑痕迹）

来源：Materialsviews2018-10-30

hf刻蚀层状前驱物；（3）高浓度naoh刻蚀层状前驱物，制备mxenes。...氢氟酸刻蚀方法主要适用于含铝的层状前驱物，而强酸、氟化物盐混合刻蚀方法使得阳离子（li+等）和水分子能够进入mxenes层间，降低层与层间的范德华力而促进剥离。

来源：交大新闻网2018-09-30

mxenes是一种过渡金属碳化物或氮化物，通常利用hf(或hcl和lif)选择性刻蚀max陶瓷粉体中a元素来获得，a代表iiia或者iva元素，m是早期过渡金属，x代表碳或/和氮。

来源：正泰新能源2018-09-30

双面制绒双面电池采用氢氧化钾碱刻蚀双面制绒体系，背顿化双面电池小批量量跑，对比酸刻蚀，正面效率下降0.06%，背面效率提升1.08%，双面率达81.2%。

来源：北极星环保网2018-09-25

高纯金属有机化合物（mo源）、高纯氨气、新型高效荧光粉等开发，生产型金属有机源化学气相沉积设备（mocvd）、氢化物气相外延（hvpe）等外延装备，高强度气体放电灯用大功率电子镇流器、感应耦合等离子体(icp)刻蚀机等芯片

来源：徐州日报2018-09-17

而在此前，硅片还需经过清洗制绒、扩散制结、湿法刻蚀、去磷硅玻璃、减反射层制备等系列工艺，才能来到最终的丝网车间。在丝网车间，硅片们经历的从背银到烧结的全部过程叫“丝网印刷”工艺。

来源：全景网2018-08-21

目前，捷佳伟创系国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备制造商，主营pecvd设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售，为太阳能光伏电池生产企业提供高转换效率大产能整体解决方案

来源：南京大学新闻网2018-08-21

li的xps表征图;(d)正极沉积产物在氩离子刻蚀前后li和na的xps表征图;(e)沉积产物的xrd表征图(al峰来自于气氛保护装置的样品台)在海水提锂的过程中，铜片表面有银白色物质生成，经xps和xrd...cl-图3：(a)在80、160、240和320a˙cm-2电流密度下的电位-时间曲线(插图为在80a˙cm-2电流密度下电解1h的电极照片);(b)每平方厘米铜片上的金属锂产量;(c)沉积产物在氩离子刻蚀前后

来源：OFweek太阳能光伏网2018-08-14

公司系国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备制造商，主营pecvd设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售。

来源：水博网2018-06-22

1.2.3径迹蚀刻法 径迹蚀刻法是使膜材料接受垂直的高能粒子辐射，使聚合物材料受损形成残缺径迹，此后将薄膜浸入刻蚀试剂中，便形成孔，其特点是形成的孔分布较为均匀。

来源：国家电网公司2018-05-31

该项目由全球能源互联网研究院有限公司牵头，项目组在深入研究钝化机理的基础上研究了一款适于项目目标的聚酰亚胺材料，提出了高压功率芯片的表面钝化工艺方案，优化了聚酰亚胺前清洗、涂覆、光刻、刻蚀及固化关键工艺菜单

来源：清新电源2018-05-22

然后，对石墨薄片进行处理，采用精密铣削技术获得球形颗粒，其次是湿法处理或热处理，用氢氟酸刻蚀或在2000c以上热处理，杂质的含量可以达到小于500 ppm。

来源：MaterialsViews2018-05-18

在等离子对材料改性的应用方面，最为常见的应用为利用其刻蚀功能促进材料表面暴露更多边缘催化活性位点，以及实现一些杂原子的掺杂从而实现对材料的改性。

来源：J EnergyChem2018-05-18

fig. 1. max相及对应的mxene在选择性刻蚀后的晶体结构fig. 2....由于氢氟酸等刻蚀剂的存在，分离出的ti3c2表面易被o、oh或f官能团所饱和。由于是从max相中剥离，并且其结构和性质上与石墨烯有一定的相似性，因此又被叫做mxene。

来源：科华恒盛2018-05-14

芯片光刻操作室以微米单位为计的操作空间下，晶圆光刻时做掩膜除了操作环境，光刻机、刻蚀机对电能质量也有严苛要求。

来源：高工锂电技术与应用2018-05-02

han等人电化学刻蚀和高能球磨相结合的方法，以p型si作为底板，hf溶液作为刻蚀液，获得孔隙率为70%的多孔硅薄膜材料，后在pan中球磨并热处理，制备碳包覆的多孔硅负极材料。...tang等人利用pva碳源包覆、hf酸刻蚀和沥青二次包覆的方法制备多孔si/c复合负极材料。

来源：锂电联盟会长2018-04-02

他们使用的是一种以镍为基片的管状简易沉积炉，通入含碳气体，如：碳氢化合物，它在高温下分解成碳原子沉积在镍的表面,形成石墨烯，通过轻微的化学刻蚀，使石墨烯薄膜和镍片分离得到石墨烯薄膜。

来源：pv-magazine2018-03-27

新加坡国立大学这一湿化学法以纳米特征尺度刻蚀晶片表面，从而增加了光线反射表面的次数及被晶片材料吸收的机会。该工艺使用专利性化学品，具有低成本性和可扩展性，且极易被集成入电池生产线。

来源：PV兔子2018-02-27

同时在这一步工艺中，两面生长氧化层，正面掺杂的多晶硅对硅片起到吸杂(gettering)的效果去除正面氧化层，再使用光刻技术对背面氧化层开孔使用koh刻蚀，正面制绒，背面断开掺杂区域的衔接ald生长20nm

来源：北极星VOCs在线2018-01-10

7、《电子设备制造业挥发性有机化合物排放标准》（征求意见稿）清洗、刻蚀、表面涂装、烘干室排气应安装废气净化装置进行处理，排气筒排放的vocs排放限值应符合下表规定。...6、《电子工业挥发性有机物排放标准》（征求意见稿）清洗、刻蚀、表面涂装、烘干室排气应安装废气净化装置进行处理，其vocs的总去除效率应达到90%，排气筒排放的vocs排放限值应符合下表规定。