2006-10-18

　　全球导航卫星系统(gnss)目前有gps、glonass、北斗、伽利略系统，它们能提供全球、全天候、实时、连续的高精度位置信息，其应用范围极其广泛，人们能想象到的领域都能应用。...gps芯片发展方向是片上集成射频电路和基带电路、采用全cmos工艺制造、支持a-gps、小体积、低功耗、高灵敏度等。

2006-08-01

马凯要求，有关部门和地方政府要重点检查高耗能企业及公共设施的用能、投资项目节能评估和审查、禁止淘汰设备异地再用情况以及产品能效标准和标识、建筑节能设计标准执行等情况。...通知要求各地要继续加大结构调整和技术进步力度，加快淘汰落后工艺、技术和设备。

2006-02-22

●进行创新能摆脱跟在国外技术后面跑的状况，才能走出低端产品打价格战的怪圈。 　　...我国要发展自主的半导体产业，就必须掌握适用于规模生产的关键工艺技术，如65nm cmos工艺、砷化镓工艺、bcd工艺等，以及生产管理流程与质量控制体系，以确保半导体产业的可持续发展。 　　

2005-08-26

山东里能集团的日产120万立方米煤气的规模化工程明年年底上马以后，将成为规模...叶大戟透露，华能集团准备联合国内相关单位，吸收国内外相关技术，用十余年的时间研究和发展符合中国国情的“绿色煤电”技术。 　　看来，“绿色煤电”并非触手可及。 　　

2005-01-19

今后一个时期，电力电子行业技术工作的重点是，下大力进行市场前景看好、能代表当今技术水平的四大类电力电子器件的研究开发，突破关键技术，加快技术创新步伐。　　...由于电力电子技术是应用电力电子器件来实现对电能的多种变换和控制，采用这项技术制造的电力电子装置实现了用弱电控制强电的功能，具有节能、降耗、省材，提高用电质量的优点。

2004-08-18

简单来说，euv光刻技术就是用远紫外线来实现芯片制造的光刻工艺。英特尔的工程师宣称，他们已经运用该技术“朝着2009年实现32纳米制程的方向迈出了重要的一步”。...相比之下，今天在英特尔制造工厂能“印刷”的最小尺寸为50纳米。 　　国际上的芯片巨头和研究机构早就盯上了这项技术。

2004-08-04

oled为自发光材料，不需用到led背光板，同时视角广、画质均匀、响应速度快、较易彩色化、用简单驱动电路即可达到发光、工艺简单、可制作成挠曲式面板，符合轻薄短小的原则，应用范围属于中小尺寸面板，加上oled

2003-03-27

perez认为，ibm公司能制造任何未来的geforce图像处理器。他透露，ibm芯片部今年夏天将开始用0.13微米工艺生产nvidia公司的geforce芯片。

来源：中国电力新闻网2007-12-06

最终他们以精湛的工艺赢得了业主方的认可，为电检公司开拓外部市场树立了良好的声誉。这一年，王杰民和刘文元所带领的项目部被黄河水电公司评为年度特殊贡献集体奖。 　　开局得胜，军心振奋。...先后获得黄河水电公司优秀共产党员、青海省劳动模范等荣誉，今年3月又当选青海省第11届党代会代表…… 当和笔者聊起这些荣誉的时候，他只是腼腆地笑笑：“荣誉只代表过去，这些荣誉既是对我的鼓励也是对我的鞭策，能获得这些荣誉

来源：中国电力新闻网2007-11-05

；用滑模工艺完成了进水口冬季砼浇筑；用卷扬机牵引、吊机辅助、钢珠托盘创造了桥梁吊装奇迹。...工程自2004年10月开工以来，承担电站导流洞、引水发电洞、泄洪洞和坝肩开挖任务的武警水电二总队官兵在施工中发扬"特别能吃苦、特别能战斗、特别能奉献"的水电铁军精神，严密组织、科学施工，昼夜奋战在施工一线

来源：新华社2007-07-04

上海市淘汰600种落后工艺，对重点用能大户实行能源审计，开展千家企业能耗“对标”管理…… 记者随“中华环保世纪行”采访团赴一些省份采访时发现，各地、各行业已不断向高能耗、高污染宣战，如签订节能目标责任书

来源：安徽省电力公司2007-06-05

减少泄漏量以至排放量，用户在六氟化硫气体电气设备检修或者用至寿命终了时不得向大气中排放，须对其中的六氟化硫气体进行回收经过处理后再利用。 　　...科技人员采取走出去、请进来的办法，利用多种形式相结合的方法开展研究工作：深入生产现场和六氟化硫气体生产厂家，了解现场的需求、存在的问题以及气体生产厂家的生产流程、工艺要求；邀请国内六氟化硫气体方面的专家讲课

来源：中国电力新闻网2007-04-06

据介绍，节能监测的主要内容有六项：一是检测、评价用能单位合理用能状况；二是对供能质量进行监督、检测；三是对节能产品的能耗指标进行抽查、验证；四是对用能产品的能耗及与产品能耗有关的工艺、设备、网络等技术性能进行检测

来源：《中国电子报》2007-03-07

北京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司总经理盛金龙在接受《中国电子报》记者采访时表示，半导体设备的发展本身就是技术创新的过程，ic以“摩尔定律”高速发展，其实其背后是以设备的创新和发展做支撑的，新的工艺技术总是用新一代设备实现的